英特爾晶圓代工達成重大里程碑
Intel 18A製程順利啟動且運作良好,將按計劃2025年進行次世代客戶端及伺服器晶片生產
最新消息: 英特爾今日宣布基於Intel 18A製程的AI PC客戶端處理器Panther Lake和伺服器處理器Clearwater Forest已經完成製造並成功通電、啟動作業系統。英特爾在流片後兩個季度內達成這項里程碑,兩款產品將按計劃於2025年開始量產。英特爾亦宣布,明年上半年將有第一家外部客戶預計以Intel 18A製程完成流片(tape out)。
「英特爾正在為AI時代開創多項系統級晶圓代工技術,並提供全方位的創新,這對英特爾和我們晶圓代工客戶的次世代產品相當重要。我們對目前的進展感到振奮,並持續與客戶密切合作,致力於2025年將Intel 18A製程推向市場。」
英特爾於今年7月發布了18A製程設計套件(Process Design Kit,PDK)1.0,透過設計工具協助代工客戶在Intel 18A製程的相關設計中運用RibbonFET環繞式閘極(GAA)電晶體架構和PowerVia背部供電技術。電子設計自動化(以下簡稱EDA)和智慧財產(以下簡稱IP)合作夥伴也正在更新其產品,以便客戶開始著手最終生產設計。
此次的里程碑顯示英特爾晶圓代工(Intel Foundry)成為業界首次成功為代工客戶實現RibbonFET環繞式閘極(GAA)電晶體和PowerVia背部供電技術,透過生態系夥伴提供的EDA和IP工具及流程,英特爾晶圓代工的Intel 18A製程提供客戶RibbonFET和PowerVia這兩樣突破性創新技術。英特爾晶圓代工透過更具韌性、更永續且值得信賴的製造能力和供應鏈,加上業界領先的先進封裝技術,整合設計和製造的次世代AI解決方案,實現更具規模且高效的運作。
Panther Lake和Clearwater Forest在無需額外配置或修改的情況下即可成功啟動作業系統,顯示Intel 18A製程的健康狀態良好。Intel 18A作為英特爾預計在2025年回歸半導體製程領先地位的先進製程技術,其健康指標包括Panther Lake的DDR記憶體效能已經達到目標頻率。明年推出的Clearwater Forest,作為未來CPU和AI晶片的原型,將成為業界首款結合RibbonFET、PowerVia和Foveros Direct 3D技術,以實現更高密度和電源處理能力的量產高效能解決方案。Clearwater Forest的基礎晶片(base-die)也領先採用Intel 3-T製程。利用英特爾的系統級晶圓代工方案,這兩款產品預計將顯著提升每瓦效能、電晶體密度和單元利用率。
英特爾的EDA和IP合作夥伴在7月取得Intel 18A PDK 1.0使用權限後,已開始著手更新他們的工具和設計流程,讓外部晶圓代工客戶可以開始進行Intel 18A晶片設計。這是英特爾晶圓代工的重要里程碑。
益華電腦(Cadence)客製化IC和PCB事業部資深副總裁暨總經理Tom Beckley表示:「Cadence與英特爾晶圓代工服務的策略合作,透過提供業界領先的EDA解決方案和針對Intel 18A製程最佳化的IP,協助加速英特爾與益華電腦共同客戶的創新。看到Intel 18A製程達成此一重要里程碑非常令人振奮,我們很高興能夠支援客戶在18A製程上進行先進設計。」
新思科技(Synopsys)電子設計自動化部門總經理Shankar Krishnamoorthy表示:「我們樂見英特爾晶圓代工已達成多項關鍵里程碑。隨著Intel 18A製程準備就緒,英特爾晶圓代工得以將設計次世代AI解決方案所需的必要元件進行充分整合,滿足我們共同客戶的需求與期望。新思科技在全球晶圓代工發揮關鍵作用,很榮幸能與英特爾晶圓代工合作,讓新思科技領先的EDA和IP解決方案能夠應用於先進製程。」
關於RibbonFET和PowerVia的更多資訊:Intel 18A的核心技術可實現更大的處理器規模與效率,這正是推動AI運算向前邁進的必要條件。RibbonFET可嚴格控制電晶體通道中的電流,使晶片元件進一步微型化,同時降低漏電,這是晶片電路密度得以持續提升的關鍵因素。PowerVia藉由將電力傳輸與晶圓正面分離,使訊號繞線路徑達成最佳化,並因此降低電阻、提升電源效率。這些技術共同展現了強大的組合,可大幅提高未來電子裝置的運算性能與電池續航力。英特爾率先將這兩項技術導入市場,全球晶圓代工客戶將能因此受惠。
更多背景資訊: 歡迎參考《Kevin O'Buckley談英特爾18A製程進展》的完整問答。
前瞻性聲明
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